Қазақстан, Алматы, Қонаев көшесі, 142
«Д.В. Сокольский атындағы Жанармай, катализ және электрохимия институты» АҚДәстүр. Білім. Болашақ технологиялары.
«Ғылым мен технология — тұрақты өнеркәсіптік дамудың негізі»Д.В. Сокольский атындағы ЖКЭИ
Іргелі зерттеулер
Қолданбалы шешімдер
Өнеркәсіптік ынтымақтастық
Түйіндемедегі библиографиялық жазба

Түйіндемедегі жарияланым — Пузикова Дарья Сергеевна

Пузикова Дарья Сергеевна

Толық библиографиялық жазба

Puzikova D.S., Dergacheva M.B., Khussurova G.M. Method for manufacturing thin films of CuBi2O4 for photoelectrochemical applications// News of NAS RK. Series of chemistry and technologies. – 2020, Vol. 3, pp. 99-106. DOI: 10.32014/2020.2518-1491.29